“宋局，是日本？”陈锋问道。
宋鞍笑了笑，不做回答。
不过也算是承认了背后交易方。
毕竟如果说谁最担心宇宙第一大国获得核武器技术，肯定是岛国。
同为秃鹰家的狗，又有历史仇恨，再加上秃鹰挑拨离间，两国没少相互撕咬。
当前，半导体技术第一强国就是日本，尼康是全球第一半导体公司，不过157纳米级技术是他们最后的骄傲了。
光刻机技术十分复杂，越是高精度，难度越高。
进入100纳米以内的精度后，不再是一个国家能够完成全部生产链的。
不说别的，单单是紫极光源，就异常复杂，需要采用多个国家的顶级技术。
如世界第一的德国蔡司镜头、全球最强的美国EUV光源系统等。
绝不是某些小说的那样手搓搞定。
把手戳烂了，也不可能搓出来纳米级的光刻机元件，那不是夸张，而是神话。
一件合格的光刻机蔡司镜头，镜片由高精度机床铣磨成型，还要经过小磨头抛光、磁流变抛光、离子束抛光等超精密抛光手段。
任何一项，都不是人手可以搓出来的，必须使用计算机控制的高精密机械才能达到所需的精度。
之后再进行镀膜（对于DUV物镜，是镀减反射膜；对于EUV物镜，是镀反射多层膜）。
蔡司反射镜最大直径1.2米，面形精度峰谷值0.12纳米，表面粗糙度20皮米（\u003d0.02纳米\u003d0.2埃），也就是说达到了原子级别的平坦。
2004年ASML就拼全力赶出了第一台浸润式光刻机样机，可以生产134纳米芯片（无法商业化），在技术上实现对尼康157纳米芯片技术的弯道超车。
但他们只有设计、组装技术，没法生产，因为大部分元件来自美国，需要美国给与专利许可。
拿到美国批准后，还是没办法商业化生产。
因为没有商业化光源，只能在实验室天价成本制造，这是无法大规模生产的。
2009年，Cymer公司的EUV光源功率达到100W，接近商业化指标，成为了ASML的光源模组供应商。
终于，EUV光刻机研制成功。
据此，足足5年时间！
2010年，ASML将第一台EUV光刻原型机——NXE:3100运送给韩国三星的研究机构作为研究设备，才标志着光刻技术新纪元的开始。
在此之前，尼康虽然在摔落，但依旧是老大。
一台EUV光刻机的重量超过180吨，整个光刻机的零配件超过10万件，而要想把这样的一台光刻机从出厂运到客户工厂中，至少需要40个集装箱！
单单是生产链，涉足成千上万家顶级技术公司，需要数万名不同行业领域的顶级工程师参与制作对应的配件。
牵连的产业包含光源、镜头、轴承、阀件等系统集成、精密光学、精密运动、精密物料传输、高精度微环境控制先进技术。
说个不好听的，没有十几万不同行业的顶尖工程师作为技术储备，都别想参与这个行业。
后世美丽奸为了推进半导体产业，强行让拥有3万工程师的台急电送了几千名过去，起步都是硕士生。
因为是他们没人！
华国对半导体技术的渴望是异常迫切的，随着华国军工企业对标美丽奸，科技代差如同一个利剑，悬浮在华国高层头上。
而芯片就是其中最核心一环。
正因为有这么多的难度、难点，华国花费了二十年，也只能追上14纳米级别的层次，而西方已经进入3纳米级别。
好在摩尔定律限制，精度越高，难度越大。
3纳米以后的2、1纳米技术难度极其恐怖。
为了缩小差距，获取岛国的落后半导体技术（比华国本身先进几代），用南韩一个落后的小型化核武器交换，他们是愿意的。
宋鞍得到了上面的指示，说道：“一共4台看生产157纳米芯片的光刻机，按照协议，目前前面两台正在秘密交付。”
“等到赤盗进入港岛，第3、4台才会交付。”
“我们配合赤盗获得密码，第三台后续重要组件开始运送。”
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